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　　光舵微纳成立于2011年，致力于推动纳米压印设备及技术的研发及产业化应用，是一家可以提供纳米压印设备、材料、工艺方案、技术支持及研发中试代工全套解决方案的科技公司。纳米压印简称NIL（NanoImprint Lithography technology），是一种新型的微纳加工技术，将纳米级的图形刻在软模板（印章）上，再将软模板上面的图形刻在压印胶上，实现图形转移后，通过热或UV光照使转移的图形固化，以完成微纳加工的“雕刻”步骤。纳米压印的分辨率由所用印模板图形的大小决定，可实现纳米级线宽。纳米压印可替代光刻环节，同时可与刻蚀、离子注入、薄膜沉积等半导体前后道工序完全兼容，能够快速接入现有产业链。